光刻胶是一种高分子化合物，主要应用于微电子制造领域的光刻工艺。在微电子制造过程中，光刻胶具有广泛用途，可用于芯片、光学器件及MEMS（微机电系统）等微型器件的制造。本案例客户属于半导体材料行业。

针对光刻胶反应釜的控温需求，工艺要求温度维持在150℃。由于反应过程中会产生放热现象，因此需要配备冷却系统。设计方案采用1平方米板式换热器进行温度控制。

四川乐山

• 产品名称：防爆模温机
• 机器型号：EUOCBF
• 设备功率：6KW
• 功能配置：整机隔离式防爆 EXdII BT4，PLC编程控制，带冷却。